بۈگۈن بىز يۇقىرى ساپلىقتىكى كۈكىرت توغرىسىدا مۇھاكىمە قىلىمىز.
كۈكۈرت كۆپ خىل قوللىنىشچانلىققا ئىگە ئورتاق ئېلېمېنت. ئۇ پاراشوكتا («تۆت چوڭ ئىجادىيەتنىڭ بىرى») ئۇچرايدۇ، ئەنئەنىۋى جۇڭگو تېبابىتىدە مىكروبلارغا قارشى تۇرۇش خۇسۇسىيىتى ئۈچۈن ئىشلىتىلىدۇ، ھەمدە ماتېرىيالنىڭ ئىقتىدارىنى ئاشۇرۇش ئۈچۈن رېزىنكىنىڭ ۋۇلكانلىشىشىدا ئىشلىتىلىدۇ. قانداقلا بولمىسۇن، يۇقىرى ساپلىقتىكى كۈكۈرتنىڭ ئىشلىتىلىش دائىرىسى تېخىمۇ كەڭ:
يۇقىرى ساپلىقتىكى كۈكىرتنىڭ ئاساسلىق قوللىنىلىش دائىرىسى
1. ئېلېكترون سانائىتى
o يېرىم ئۆتكۈزگۈچ ماتېرىياللار: سۇلفىد يېرىم ئۆتكۈزگۈچلەرنى (مەسىلەن، كادمىي سۇلفىد، سىنك سۇلفىد) تەييارلاش ياكى ماتېرىيال خۇسۇسىيىتىنى ياخشىلاش ئۈچۈن قوشۇمچە ماددا سۈپىتىدە ئىشلىتىلىدۇ.
o لىتىي باتارېيەلىرى: يۇقىرى ساپلىقتىكى كۈكۈرت لىتىي-كۈكۈرت باتارېيە كاتودلىرىنىڭ مۇھىم تەركىبىي قىسمى؛ ئۇنىڭ ساپلىقى ئېنېرگىيە زىچلىقى ۋە دەۋرىيلىك ئۆمرىگە بىۋاسىتە تەسىر كۆرسىتىدۇ.
2. خىمىيىلىك سىنتېز
o يۇقىرى ساپلىقتىكى سۇلفات كىسلاتاسى، سۇلفات تۆت ئوكسىد ۋە باشقا خىمىيىلىك ماددىلارنى ئىشلەپچىقىرىش، ياكى ئورگانىك بىرىكتۈرۈشتە سۇلفات مەنبەسى سۈپىتىدە (مەسىلەن، دورىگەرلىك ئارىلىق مەھسۇلاتلىرى).
3. ئوپتىكىلىق ماتېرىياللار
o مەلۇم دولقۇن ئۇزۇنلۇقى دائىرىسىدە يۇقىرى ئۆتكۈزۈشچانلىقى سەۋەبىدىن ئىنفىرا قىزىل نۇر ئەينەكلىرى ۋە دېرىزە ماتېرىياللىرى (مەسىلەن، خالكوگېنىد ئەينەكلىرى) ياساش.
4. دورىگەرلىك
o دورىلارنىڭ خام ماتېرىيالى (مەسىلەن، كۈكۈرت مەلھىمى) ياكى رادىئوئاكتىپ ئىزوتوپ بەلگىسى قويۇش ئۈچۈن توشۇغۇچىلار.
5. ئىلمىي تەتقىقات
o ئۆتكۈر ئۆتكۈزگۈچ ماتېرىياللار، كۋانت نۇقتىلىرى ياكى نانو-كۈكۈرت زەررىچىلىرىنى بىرىكتۈرۈش، بۇلار ئىنتايىن يۇقىرى ساپلىقنى تەلەپ قىلىدۇ.
____________________________________________
سىچۈەن جىڭدىڭ تېخنىكىسى ئارقىلىق يۇقىرى ساپلىقتىكى كۈكىرتنى تازىلاش ئۇسۇللىرى
بۇ شىركەت تۆۋەندىكى تېخنىكىلارنى قوللىنىپ 6N (99.9999%) ئېلېكترونلۇق دەرىجىلىك يۇقىرى ساپلىقتىكى كۈكۈرت ئىشلەپچىقىرىدۇ:
1. قاينىتىش
o پىرىنسىپى: ۋاكۇئۇم ياكى ئاتموسفېرادا قاينىتىش ئارقىلىق كۈكىرتنى (قايناش نۇقتىسى: 444.6°C) ئارىلاشمىلاردىن ئايرىيدۇ.
o ئەۋزەللىكى: سانائەت كۆلەملىك ئىشلەپچىقىرىش.
o كەمچىلىكى: ئوخشاش قايناق نۇقتىسىغا ئىگە ئارىلاشمىلارنى ساقلاپ قېلىشى مۇمكىن.
2. رايوننى پىششىقلاپ ئىشلەش
o پىرىنسىپ: ئېرىگەن رايوننى قاتتىق ۋە سۇيۇق باسقۇچلار ئوتتۇرىسىدىكى ئارىلاشمىلارنى ئايرىش ئۈچۈن ھەرىكەتلەندۈرىدۇ.
o ئەۋزەللىكى: ئىنتايىن يۇقىرى ساپلىققا ئېرىشىدۇ (>99.999%).
o كەمچىلىكى: تۆۋەن ئۈنۈملۈك، يۇقىرى باھا؛ تەجرىبىخانا ياكى كىچىك كۆلەمدە ئىشلەپچىقىرىشقا ماس كېلىدۇ.
3. خىمىيىلىك پار چۆكمىسى (CVD)
o پىرىنسىپى: گاز شەكىللىك سۇلفىدلارنى (مەسىلەن، H₂S) پارچىلاپ، ئاساسىي قاتلاملارغا يۇقىرى ساپلىقتىكى سۇلفىدنى چۆكتۈرىدۇ.
o ئەۋزەللىكى: ئىنتايىن ساپلىقتىكى نېپىز پەردە ماتېرىياللىرى ئۈچۈن ئەڭ ماس كېلىدۇ.
o كەمچىلىكى: مۇرەككەپ ئۈسكۈنىلەر.
4. ئېرىتكۈچىنىڭ كىرىستاللىشىشى
o پىرىنسىپ: ئېرىتكۈچىلەر (مەسىلەن، CS₂، تولۇئېن) ئارقىلىق كۈكىرتنى قايتا كىرىستاللاشتۇرىدۇ، بۇنىڭ بىلەن كىرلەرنى چىقىرىۋېتىدۇ.
o ئەۋزەللىكى: ئورگانىك ئارىلاشمىلارغا ئۈنۈملۈك.
o كەمچىلىكى: زەھەرلىك ئېرىتكۈچىلەر بىلەن ئىشلەشنى تەلەپ قىلىدۇ.
____________________________________________
ئېلېكترونلۇق/ئوپتىكىلىق دەرىجە ئۈچۈن جەرياننى ئەلالاشتۇرۇش (99.9999%+)
رايون تازىلاش + CVD ياكى CVD + ئېرىتكۈچى كىرىستاللاشتۇرۇش قاتارلىق بىرىكمىلەر قوللىنىلىدۇ. تازىلاش ئىستراتېگىيىسى ئارىلاشما ماددىلارنىڭ تۈرى ۋە ساپلىق تەلىپىگە ماسلاشتۇرۇلۇپ، ئۈنۈم ۋە ئېنىقلىققا كاپالەتلىك قىلىنىدۇ.
بۇ ئۇسۇل ئېلېكترون، ئېنېرگىيە ساقلاش ۋە ئىلغار ماتېرىياللار قاتارلىق ساھەلەردە قانداق قىلىپ گىبرىد ئۇسۇللارنىڭ ئەۋرىشىملىك، يۇقىرى ئۈنۈملۈك تازىلاش ئىقتىدارىنى ئىشقا ئاشۇرىدىغانلىقىنى مىسال قىلىپ كۆرسىتىپ بېرىدۇ.
ئېلان قىلىنغان ۋاقىت: 2025-يىلى 3-ئاينىڭ 24-كۈنى

